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江苏迪纳科精细材料股份有限公司 溅射靶材|陶瓷靶材|金属靶材|等离子喷涂靶材
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关于我们

迪纳科股份创立于2011年,专注于PVD磁控溅射靶材的研发、生产、销售、应用推广以及靶材回收再利用。依靠过硬的技术优势、稳定的生产工艺、完善的管理体制以及专业可靠的团队,公司的销售额一路高歌猛进,迅速扩张、不断抢占市场、成为国内外多品种靶材供应商不可或缺的一员。我们的核心竞争力是技术骨干均是学院派和实战派,科班出身后在国有研究院任职多年,经过十多年的发展和沉淀,形成了一套差异化的研发制造系统。 从粉体的弥散分散技术到原位固化成型、各种气氛的保护烧结,再到精确的机加工以及摩擦焊接技术,都申请了专利保护,布局知识产权市场,增加了客户的粘性和议价能力。 经多年的技术积累及公司稳固发展,迪纳科股份在中国江苏建成迪丞光电和东玖科技两个专业化、先进化、规模化生产基地,凭借自身较为齐全的生产工艺和技术、产品的多样化、大规模低成本的优势,以及对材料的认识和把控可以配合并支撑下游客户的新材料的研发和生产,成为一站式的靶材供应商。随着中国科技的崛起、经济的飞速发展,目前正是光电功能材料国产化替代进程的关键时期,也是我司业绩爆发期。

江苏迪纳科精细材料股份有限公司公司简介

宁夏溅射靶材生产企业 AZO靶材 江苏迪纳科精细材料股份供应

2024-11-17 00:17:37

靶材的主要种类与特点金属靶材:包括铜、铝、金等,广泛应用于电子和光学薄膜的制备。主要特点是良好的导电性和反射性,使得在制**射镜和电导膜等方面非常有效。金属靶材在高温下容易蒸发,可能对薄膜的质量和均匀性构成挑战。氧化物靶材:二氧化硅或氧化锌,靶材在制造透明导电薄膜和光电器件中扮演重要角色。主要优点是化学稳定性高,可在各种环境中保持性能。不过,在制备过程中,氧化物靶材可能需要特殊的环境控制,确保薄膜的质量和性能。陶瓷靶材:因其高熔点和良好的化学稳定性,陶瓷靶材在高温和腐蚀性环境下表现优异。这材料常用于制造耐磨薄膜和保护涂层,如在刀具和航空部件上的应用。半导体靶材:如硅和锗,这些材料在微电子和光伏领域发挥着至关重要的作用。半导体靶材的关键在于精确的掺杂控制,这决定了**终产品的电子特性。它们用于制造各种微电子器件,如晶体管、太阳能电池等。实现导电和阻挡的功能。宁夏溅射靶材生产企业

靶材,就像它的名字暗示的那样,可以想象成射箭时箭靶的那块区域,只不过在我们讨论的科学和工业领域里,这个“箭靶”被用于非常特殊的目的。在物理、材料科学或者电子制造等行业中,靶材是一块通常由金属或其他材料制成的坚固板材,它被用作物***相沉积(PVD)等技术中的一个关键组成部分。在这些过程中,靶材表面的材料会被高能粒子(比如离子)轰击,从而使得靶材表面的一部分材料被“击出”并沉积到另一块材料(比如晶片、镜片等)上,形成一层薄薄的涂层。青海氧化锌靶材生产企业碳纳米管复合材料靶材在航空航天领域具有潜力。

2. 制备方法a. 粉末冶金法 这是制备钨靶材**传统也**常用的方法。首先将钨粉进行压制成型,然后在氢气氛围中高温烧结。这个过程可以产生高纯度、高密度的钨靶材,但其制品往往需要后续的加工以满足特定的尺寸和形状要求。b. 溅射靶材制备 溅射是一种在真空中利用离子轰击的方法,将钨材料沉积到一个基底上形成薄膜。这种方法对于制备高纯度、精细结构的钨薄膜靶材特别有效。适用于需要非常平整和均匀表面的应用,如半导体制造。c. 热等静压技术 热等静压(HIP)技术通过同时施加高温和高压来对钨材料进行致密化处理。此方法能够消除粉末冶金过程中可能产生的气孔和缺陷,从而生产出密度更高、均匀性更好的钨靶材。d. 熔融法 使用高温将钨完全熔化,然后通过铸造或其他成型工艺制成靶材。虽然这种方法可以生产出尺寸较大的钨靶材,但控制其纯度和微观结构比较困难。e. 化学气相沉积(CVD) CVD是一种在高温下将气态前驱体分解,将钨沉积在基材上的方法。此技术主要用于制备特定微观结构和纯度要求高的薄膜材料。

二、制备方法:粉末冶金法:混合:首先,将氧化铟(In2O3)与少量的氧化锡(SnO2)粉末按一定比例混合,这一比例直接决定了ITO靶材的**终电学性质。球磨:混合后的粉末会进行球磨处理,以提高粉末的均匀性和反应活性,球磨时间和方式对粉末粒径和形貌有着重要影响。压制:经过球磨的粉末随后会在高压下压制成型,成型的密度和均匀性直接影响后续烧结过程。烧结:***,将压制好的坯体在高温下进行烧结,高温烧结可以促使粉末颗粒之间发生固相反应,形成密实的ITO块材。正确的包装和储存对于保持靶材的质量和性能至关重要。

靶材是制备薄膜的主要材料之一,主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等,对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的工作原理:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体即为溅射靶材。靶材发展趋势是:高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高纯金属。靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。如今开发出来的磁光盘,具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的层复合膜结构。青海氧化物靶材价钱

铝靶材则广泛应用于镜面反射层的制作。宁夏溅射靶材生产企业

纯度:一般在99.99%,可做4N5。纯度是影响材料电导性、磁性以及化学稳定性的重要因素。晶体结构: 通常为面心立方晶格(FCC)。有利于提供良好的机械性能和高度的热稳定性。热导率: 一般在90-100 W/mK左右。高热导率有利于在溅射过程中的热量快速分散,避免材料过热。电导率: 大约为14.3 × 10^6 S/m。这使得镍靶材在电子行业,特别是在制造导电膜层方面极具价值。磁性: 铁磁性材料,具有特定的磁性特征,其居里温度约为360°C。这一特性使得镍在磁性材料的制备中扮演着重要角色。硬度和延展性: 适中的硬度和良好的延展性。硬度保证了其在制造过程中的耐用性,而良好的延展性则使得其能够被加工成各种所需形状。表面光洁度: 表面光洁度非常高,通常可以达到镜面效果。高光洁度的表面有助于实现均匀的膜层沉积。宁夏溅射靶材生产企业

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